凌嘉科技 - LINCOTEC Technology Co., Ltd. 電漿清潔 (蝕刻)原理 : 利用高頻的電源所產生的電漿，來帶動氣體離子轟擊基底材料，以達到表面清潔 (蝕刻)的效果。 其功能包含了： 1. 表面活化 2. 表面清潔 3. 微蝕刻化 4. 交錯連結 5. 化學改質 能有效改善被處理素材的表面濕潤性與表面能、增加附著 ...
Chapter 7 電漿的基礎原理 - 義守大學 I-Shou University 電漿的基礎原理 2 目標 • 列出至少三種用到電漿的半導體製程 • 列出電漿中的主要三種碰撞 • 說明平均自由路徑 • 說明電漿如何增強蝕刻及CVD 製程 • 列出兩 ...
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Chapter 7 電漿的基礎原理 2. 目標. • 列出至少三種用到電漿的半導體製程. • 列出電漿中的主要三種碰撞. • 說明平均自由路徑. • 說明電漿如何增強蝕刻及CVD 製程. • 列出兩種高密度電漿源 ...
半導體科技.先進封裝與測試雜誌 - 大氣電漿(AP)應用於有機物清除設備之簡介 - Semicondutor Magazine 2-2 大氣電漿設備原理[2] 氧氣經由電漿解離，會產生大量的自由基粒子(如下式)，這些自由基粒子會與碳氫化合物及表面的氧化物起反應，尤其其中的氧自由基容易與油性物質或與低分子有機物產生揮發性的產物，輕易的被鈍性氣體帶走。如 ...
Enercon大氣式電漿清洗機-勤友企業股份有限公司 基本原理： 當等離子氣體與被處理物表面相遇時，產生了化學作用和物理變化。表面得到了清潔，去除了碳化氫類汙物，如油脂、輔助擠壓劑等，根據材料成分，其表面分子鏈結構得到了改變。建立了羥基、羧基等自由基團，這些基團對各種塗敷材料 ...
大氣電漿(AP)應用於有機物清除設備之簡介 - 半導體科技 在實際操作上為了提高清潔效果必需提高電漿系統的壓力。 圖2-2：大氣電漿示意 2-2 大氣電漿設備原理[2] 氧氣經由電漿解離，會產生大量的自由基粒子(如下式)，這些 ...
電漿處理基本原理 電漿蝕刻主要應用於清除表面污染物，具有清潔之功效；並且造成基材表面氧化、 分解或進行其它化學反應，進而在高分子 ...
電漿清洗機 - Kingyoup 壹. 基本原理. 經Enercon電漿清洗機(Plasma)高壓放電所產生電離子氣體，藉由空氣 壓縮機將氣體. 噴出電離子氣體(電漿)， ...
Plasma cleaning - Wikipedia, the free encyclopedia The surface of a MEMS device is cleaned with bright, blue oxygen plasma in a ... If the part to be treated consists of easily oxidized materials such as silver or ...
