光微影術 - 奈米科學網 2005年3月23日 - 圖一：為標準光微影製程，曝光源通過光罩、透鏡，最後將光罩圖形成像於晶圓上。 .... 根據繞射原理，行經不同相鄰透光區之光線，其影像會因繞射效應而互相干涉，當兩個影像 ...
半導體科技.先進封裝與測試雜誌 - 利用先進臨界尺寸原子力顯微鏡進行光罩蝕刻後之三維量測 - Semicondutor Magazine 10pt 3>針對量測臨界尺寸之需求，已開發出新一代的原子力顯微鏡技術。藉由導入各項新型技術，諸如複合式探針設計、自動化探針校準能力以及表面取樣方式改進等，新世代臨界尺寸原子力顯微鏡(以下簡稱CD AFM)可相當精準地量測出光罩幾何數據。研究 ...
微影光罩組 - 國研院奈米元件實驗室 - 國家實驗研究院 目前本組有10位優秀同仁，分別有光學微影、電子束微影、阻劑製程與光罩製造等專長，主要任務為對外提供微影製程代工與光罩製造的服務，並維護穩定的設備、製程 ...
== TCE == Leading the way to next generation reticle technology 半導體產業的製程技術，從0.18um演進至45nm，中華凸版提供的光罩解決方案，協助客戶去因應這新技術的挑戰。現在，當客戶更往先進技術邁進之時，中華凸版也在深次微米的世代，提供必需的 ...
光罩的製作流程 - Finex Co.,LTD. 何謂光罩 · 光罩的應用領域 · 光罩的精度 · 光罩製成的商品 · 光罩的製作流程 · 技術 · 主要客戶分佈 · 其他 · 個人隱私政策 | 資訊安全政策. Copyright © 2010. All Rights ...
光罩製程 - 弘榮光罩 您目前位置：認識光罩. 光罩製程. 光罩製程. 列印 · Email. 在Quartz上sputtering Cr/ CrO2後在其上coating resist。 product05 3. 使用Laser lithography equipemnt， ...
CTimes - 光罩工業及其製程技術之探討: - 因為通訊產品和網路的蓬勃發展，上一波經濟成長維持了十年多的景氣榮景。上一波 景氣在上一世紀的最後一年之第三季開始走下坡，不景氣時間愈拖愈久，隨著網路 ...
半導體科技.先進封裝與測試雜誌- 32奈米製程光罩將轉進鉬矽材料 ... Kalk表示在製作32奈米製程光罩中的一項重要關鍵就是選用OMOG(opaque- molybdenum-over-glass，玻璃上的不透明鉬層)材料。這個新的遮光材料其實就是 目前 ...
光罩-電子工程專輯 光罩技術影像解決方案供應商Photronics日前表示，將投資1.5~3億美元，在韓國 興建一座光罩產品加工廠，以支援65奈米、45奈米及以下製程生產半導體所需的先進 ...
