光罩對準曝光機 中文名稱 光罩對準曝光機 英文名稱 Mask Aligner 儀器廠牌型號 德國Karl-Suss MJB-3 購置年限 甲台 : 1988年3月 乙台 : 1991年1月 放置地點 固態電子系統大樓 1樓120實驗室 (TEL：55609) 機台狀況 重要規格
光罩對準曝光機 - SUSS MicroTec - SUSS MicroTec - Semiconductor Equipment Manufacturing for more 光罩對準曝光機 高精準度且適用於薄膜與厚膜應用 SUSS MicroTec光罩對準曝光機已成為優質效能、精確對準及精密曝光光學的代名詞。SUSS MicroTec提供的完整光罩對準曝光機系列，可供自動化、大量生產的高階晶圓廠及研發實驗室等各種環境使用。
曝光 - SUSS MicroTec 曝光 晶圓上光阻劑的曝光為製造晶片結構的重要步驟之一。通常使用兩種製程：近接式及投影式微影。近接式微影為一比一的近接或接觸式陰影投射：先將需轉印圖像的光罩對準並置於非常接近晶圓的位置( 即「近接式微影 - "Proximity Lithography"」)，曝光 ...
弗侖斯系統股份有限公司 6吋自動光阻顯影生產線 機台:DNS DA-60A 製程: 光阻顯影 ‧ Substrate size: 6" ‧ Coating of Positive resists : 10 μm to 25 μm. ‧ Coating of positive resists, including soft bake. ‧ Uniformity: ± 5% within wafer ‧ Capacity: 10k pieces/month
光罩對準曝光機 - SUSS MicroTec SUSS MicroTec光罩對準曝光機已成為優質效能、精確對準及精密曝光光學的 代名詞。SUSS MicroTec提供的完整光罩對準曝光機系列，可供自動化、大量生產的 高階 ...
曝光 - SUSS MicroTec SUSS MicroTec 的投影式掃描技術結合了全晶圓對準曝光技術及傳統投影技術的 優點於一身，成為光罩對準曝光機和傳統步進式曝光機以外的另一選擇。投影式掃描 ...
投影式掃描曝光機 - SUSS MicroTec 投影式掃描曝光機. 與近接式微影可一次完成整片晶圓曝光的技術不同，投影式微影 的製程則是以投影鏡組分區段個別投影的方式來完成曝光。因此整個晶圓的曝光是 ...
MA300 Gen2 - Overview - SUSS MicroTec ... 曝光的幾何範圍為5到100微米的技術上。MA300代表了SUSS所生產的新一世代 光罩對準曝光機，其設計時即是要滿足具有大量量產製造環境的高階晶圓廠的需求。
詳細 - SUSS MicroTec 除了底部對準能讓SUSS的300mm光罩對準曝光機能夠處理雙面結構晶圓之外， 紅外線對準選配則能夠處理不透明，但紅外線可穿透的材料，例如各類黏著劑，特別 是 ...
MA100/150e Gen2 - Overview - SUSS MicroTec SUSS MicroTec專為化合物半導體製程所設計的光罩對準曝光機MA100/150e Gen2，能處理高亮度LED (HB-LED)、功率元件、RF-MEMS 等重要的化合物半導體 製程 ...
