電漿源原理與應用之介紹 另外在半導封裝及紡織業方面,則使用電漿來清潔及改變材料表面以達到特殊的功能 及效果。在環保方面,電漿火炬可以安全 ...
電漿源原理與應用之介紹 面,則使用電漿來清潔及改變材料表面以達到特殊的. 功能及效果。 ... 感應機制與與 變壓器原理相同,其中線圈為變壓器之.
反應性射頻磁控濺鍍原理 反應性射頻磁控濺鍍原理. 濺鍍(sputtering)製程是使用電漿(plasma)對靶材進行離子轟擊(ion bombardment),將靶材表面的原子撞擊出來。這些原子以氣體分子 ...
無標題文件 原子層化學氣相沉積 (Atomic Layer Chemical Vapor Deposition, ALCVD) 顧名思義,原子層化學氣相沉積 (ALCVD ) 是一種逐層沉積原子層級 厚度的薄膜沉積技術,ALCVD 利用氣體前驅物在基材表面進行選擇性化 學吸附反應時, 在達到單一飽和吸附層狀態後,即 ...
CVD 製程原理與應用 (捷胤工業).ppt [相容模式] Plasma 原理 •What is plasma? 電漿: 由離子、電子、分子及原子團所組成的部份接近中性化之 離子化氣體 電漿分類: DC plasma‐‐電極為導體,運用在PVD 當壓力很小於1大氣壓時,由於離子與二次電子的交互碰撞
綠色化學 前言 以化學原理的角度出發,探討現今科技對環境保護所做的貢獻,並與日常生活做結合,以期能夠將化學環保的概念與大家分享。(1)各式污染:空氣、水、垃圾污染 (2)綠色化學
半導體科技.先進封裝與測試雜誌 - 矽深蝕刻製程在微機電系統(MEMS)之關鍵性製程模組建構上之應用 - Semicondutor ... 本文介紹對當今之微機電系統(MEMS;Micro Electro-Mechanical System)製造上必要之矽深蝕刻製程,歸納說明蝕刻設備對於滿足四種基本的蝕刻製程要求之比較,包括有塊體(bulk)、精準(precision)、絕緣層上之矽晶(SOI;Silicon On Insulator)及高深寬比的蝕刻 ...
半導體科技.先進封裝與測試雜誌 - 下世代光源-準分子紫外光介紹 - Semicondutor Magazine 劉有台 / 工研院化學工業研究所 近年來,準分子紫外光(Excimer UV)技術已廣泛地應用在科學研究與工業生產應用方面,例如臭氧的產生[1]、殺菌處理、紫外光印刷製程、光化學反應、塑膠表面處理[2,3]、光化學氣相沈積(Photo- CVD)[4]、薄膜加工[5]、光化學 ...
web.thu.edu.tw 徐詮亮博士 現職: 東海 大學食品科學系教授 東海 大學農學院農業推廣中心教授 東海 大學食品科學系食品加工工程研究室主持人 學歷: 美國密蘇里大學哥倫比亞校區生物工程博士 (1998) 美國密蘇里大學哥倫比亞校區食品科學碩士 (1995)
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