冠晶光電股份有限公司＜公司簡介及所有工作機會＞─104人力銀行 6~10人應徵 1年以上工作經歷，大學以上學歷 1. 優先錄取具透明導電薄膜相關鍍膜經驗者 2. 具磁控濺鍍薄膜或真空電漿製程經驗或能力 3. 熟悉高真空濺鍍系統操作、維護與保養 4. 具薄膜微結構、電性或組成分析能力...
CF 相關製程設備介紹 - NEW JEIN INDUSTRIAL CO, LTD 製程機台組成 BM Line GRB Line OC Line ITO Line SOC Line LD LD LD LD LD UV-Unit UV-Unit UV-Unit UV-Unit UV-Unit Pre-Cleaner Pre-Cleaner Pre-Cleaner Pre-Cleaner Pre-Cleaner DH-Bake HP/CP DH-Bake HP/CP DH-Bake HP/CP DH-Bake HP/CP DH-Bake ...
富臨科技工程股份有限公司 本公司推出的PECVD是一部單腔製程的電漿輔助化學氣相沉積系統，適用於200mm ... PECVD在本土設備製造上之技術能力已技冠全台，藉由多層均勻分流的shower ...
材料世界網:應用於FPD製程設備之橡膠耗材開發 ... 嚴謹，以確實達到清潔的效果，並維持一定壽命。本計畫主要針對用於G5.5 、G6 、G7.5 之 Slit Coater ...
科林研發股份有限公司(Lam Research)＜公司簡介及所有工作機會＞─104人力銀行 科林研發股份有限公司(Lam Research),半導體製造業,科林研發大事紀： Lam Research為全世界第三大半導體設備商，總公司於1980年成立於美國加州矽谷、1984年股票於美國NASDAQ上市、電漿蝕刻設備為全球銷售之冠、四十多家子公司遍及歐洲 ...
可鍍製G5.5大面積面板製程之PECVD - 亞樹科技股份有限公司 產品介紹. 產品介紹. 電漿輔助化學氣相沉積設備(PECVD)中射頻技術為產生電漿源之關鍵，然而，因應產業之趨勢，需往大尺寸設備發展。亞樹自行 ... 68 MHz電漿源， 生產5.5代面板的矽薄膜太陽能電池製程上得到驗證，其鍍膜均勻性可達到
可镀制G5.5大面积面板制程之PECVD - 亞樹科技股份有限公司 产品介绍. 产品介绍. 电浆辅助化学气相沉积设备(PECVD)中射频技术为产生电浆源之关键，然而，因应产业之趋势，需往大尺寸设备发展。亚树自行 ... 68 MHz电浆源， 生产5.5代面板的矽薄膜太阳能电池制程上得到验证，其镀膜均匀性可达到
p023 太陽能電池電漿鍍膜設備關鍵模組技術簡介 ... - 機械工業雜誌 太陽光電製程設備技術專輯. │. │ 2008.05 │23. 關鍵詞. ‧太陽電池. Solar Cell. ‧電漿. Plasma. ‧真空. Vacuum. ‧電漿輔助化學氣相沉積PECVD. ‧物理氣相沉積. PVD.
pecvd 設備製程介紹|求購網 pecvd 設備製程介紹。Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) 規格: 一. 綜合說明: 腔體上蓋板上掀式設計，手動放置晶片。找到了pecvd 設備製程 ...
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