化學氣相沉積(Chemical Vapor Deposition) 及真空系統。 高溫氧化矽(摻雜及. 未摻雜)、氮化矽、. 多晶矽以及WSi2。 電漿CVD. 電漿增加CVD. (PECVD).
半導體製程技術 - 國立聯合大學 半導體製程技術. Introduction to Semiconductor Process Technology. 許正興. 國立 聯合大學電機工程學系 ...
Lextar 隆達電子 隆達電子為一專業生產發光二極體LED磊晶片、晶粒及封裝技術到光源應用的公司，同時是台灣LED產業中唯一採上游、中游、下游製程到照明應用一條龍生產的營運模式。
濕式蝕刻製程提高LED光萃取效率之產能與良率 - LEDinside 由於 LED之 藍寶石基板化學濕式蝕刻 製程，可藉由 基板表面幾何圖形之變化，來改變 LED的散射機制，或將散射光導引至 ...
中英友科技(安百立科技)，Partnertech Instruments International Corporation，PVD、CVD、Etch製程設備及真空幫浦供應商 ... 中英友科技有限公司是一家專業半導體及真空設備元件的代理商，在各專業領域內與不同品牌的真空設備原廠進行合作，代理國外品質最優良 ，技術最成熟的真空相關產品銷售及維修服務，並配合客戶的需求，提供真空設備元件完整的"Total solution"整合 ...
從微米走向奈米 半導體製程推進難關不斷 - 學技術 - 新電子科技雜誌 根據新修訂ITRS(International Technology Roadmap for Semiconductors)技術藍圖，清楚地指出目前半導體製程技術，已經從早期微米以上製程不斷地微縮，經過0.1微米以下，進入到「奈米」世代... 根據新修訂ITRS(International Technology Roadmap for
瑞耘科技股份有限公司＜瑞耘科技股份有限公司創立於1998年3月，目標在成為『全球先進半導體前段製程設備』 營運範疇 垂直整合製造 半導體/先進封裝/平面顯示器/太陽能/LED/MEMS 等先進製造產業製程設備之關鍵零組件。 產品應用於設備製程包括：Etching、PVD、CVD、Ion Implantation and CMP等 。 零組件材料包括：鋁合金、不鏽鋼、鈦合金、 鎢、銅及其他特殊 ...
化學氣相沉積- 維基百科，自由的百科全書 - Wikipedia 行動版 - 半導體產業使用此技術來成長薄膜。典型的CVD製程是將晶圓（基底）暴露在一種或多種不同的前驅物下，在 ...
何謂CVD製程與PVD製程- Yahoo!奇摩知識+
(CVD)改善 2009年11月13日 - 預期效益：原CVD製程排放約為61,560公噸CO. 2 e ；預計工程完工. 後， CVD製程 排放約 ...
