半導體製程及原理 半導體工業的製造方法是在矽半導體上製造電子元件 (產品包括:動態記憶體、靜態記億體、微虛理器…等)，而電子元件之完成則由精密 ... (5)純水設備再生廢水：NaOH、HCl、H 2 O 2。 (6)濕式洗滌塔廢水：洗滌廢氣所含之污染質。 2. IC構裝製造作業主要污染源為切割 ...
真空PVD濺鍍原理 - 厚昌真空科技有限公司濺鍍 PVD離子鍍膜 PVD鍍膜（離子鍍膜）技術，其具體原理是在真空 條件下，採用低氣壓、大電流的電弧放電技術，利用氣體放電使靶材蒸鍍並使被蒸物與氣體都產生電離，利用電子的加速作用，使被蒸鍍物及其反物沉積在工件上 ...
電漿與電弧原理 - 中興大學教職員工網頁 2006/6/14: 電漿與電弧原理 電漿與電弧原理 報告人 詹振能 葉姿青 林威豪 。 。 兩極距離 ...
半導體製程及原理 原理簡介. 一般固體材料依導電情形可分為導體、半導體及絕緣體。材料元件內自由 ..... 半導體製造不管在矽晶圓、積體電路製造，或是IC晶片構裝，其生產製程相當 ...
專業金屬表面處理技術服務 - 展新興業 化學複合鎳, 無電解鎳, 奈米鑽石, 碳化矽陶瓷, 鈦合金發色, Nano diamond ... 微弧 陽極處理 電解液製程條件較傳統 陽極氧化為寬，可配合不同類 別鍍膜需求來調整不同電解液。如:Al、Mg、Ti、Zr等金屬. 3. 適用於各種輕金屬合金及金屬基複合材料 ...
鈦發色陽極處理-美上鎂提供鈦發色陽極處理 硬膜 陽極 無電解鎳 複合鎳鐵氟龍 化學黑鎳 電解拋光 三價鉻化成皮膜 鈦合金 發色 不鏽鋼鈍化 不鏽鋼黑化 鈦合金 ...
閎康科技股份有限公司 > 二次離子質譜儀(SIMS) 二次離子質譜儀具有優異的偵測極限，可量測出固體材料中元素含量至百萬分之一或以下。二次離子質譜儀，一般以其分析儀種類，可區分為磁偏式質譜儀、四極式質譜儀與飛行 ...
離子佈植 - 中央研究院物理研究所 Institute of Physics, Academia Sinica SNICS 離子源的工作 原理 係先利用游離後的銫 離子（ Cesium ）來撞擊陰極靶（ cathode ...
離子佈植 - 中研院物理研究所 一般而言，離子佈植機的構造主要包括下列的系統：離子源（ion source）、分析 ... 其中離子源係為產生各種離子的基本設備，其工作原理係將靶材物質游離，使其形成 帶 ...
「離子植入法+退火處理法」。 這些元素藉由熱擴散法或離子植入法摻入矽中，目前以離子植入法為主流。 雜質摻入 .... 絕緣層的產生，也就是氧的植入等，需要使用高能量離子植入機。此外，源極/汲 ...
