半導體晶圓廠的清潔劑 13 7733 科學做見證．為工業 2. H.QDR工作原理 APM溶液由一定比例的NH 4OH溶液、H 2O 2 溶液組成，以65∼80 高溫加熱的製程。在 矽晶圓表面由於H 2O 2氧化作用生成氧化膜（約 6nm呈親水性），該氧化膜又被NH 4OH腐蝕，
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