蒸鍍、濺鍍 CVD法形成膜的原理簡單示於下圖。 ◇ 將反應 ... 現在的半導體製程中，幾乎都不用蒸鍍法，因此PVD法在元件製造上，只使用濺鍍法而已。 ◇ 濺鍍法是在高真空狀態下，利用氬離子撞擊靶產生的濺鍍現象，將靶材的原子擊出，使其沉積在基板上。
蒸鍍 電子束加速的原理是由於電子帶有電荷，所以可以施以電場加速，亦即施以V電位差，則電子束所擁有的 ... 蒸鍍完成後再等一段時間，讓材料分子稍微冷卻，再破真空。
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