磁 控 濺 鍍 機 磁 控 濺 鍍 機 (Magnetron Sputter) S O P NCKU Micro-Nano Technology Center/Southern Region MEMS Center 本文件及文件之內容屬國科會南區微系統研究中心所有，謹供列印閱讀，未經許可，請勿以任何形式翻製抄襲。 This document is the property of the ...
國立台北科技大學奈米光電磁材料技術研發中心 可適用於電機、機械、電子、光學、材料等研究領域。射頻磁控濺鍍機其基本原理 乃根據離子濺射原理，當高能粒子（通常是由電場加速的正離子）衝擊到固體表面，固體表面的原子和分子在與這些高能粒子交換動能後，就從固體 ...
RF Magnetron Sputter - 義守大學 I-Shou University 射頻磁控濺鍍機 RF Magnetron Sputter ¾儀器功能與規格 功能: (1)可濺鍍氮化物如:ZnN、CrN、AlN (2)可濺鍍氧化物:ZrO2、Al2O3 規格: (1)最大輸出功率:RF(600W) (2)射頻產生器操作頻率:13.56 MHz (3)單靶式:3吋靶材 (4)可加熱至600
Untitled Document [140.116.176.21] 磁控濺鍍機 Magnetron Sputter Deposition 設備廠商/ 型號 Vendor/Type 和立聯合科技/ Helix/ HLLS-87 功能 利用磁力控制增加電漿密度，以離子轟擊靶材濺鍍銅、鋅、鉻、鋁、鈦金屬薄膜(DC gun ...
Sputter 中文名稱 濺鍍機 英文名稱 Sputter 儀器廠牌型號 原「 Helix 和利聯合」，今改為「中華聯合」 購置年限 2001年 4 月 9 日 放置位置 博愛校區奈米中心2樓215室 (TEL:55682) 功能 1. 共有兩支濺鍍鎗 (Cathode)，可分別進行各類金屬、非金屬濺鍍於 4 吋圓板片上
優必克科技股份有限公司 -- Sputter濺鍍機維修 Sputter濺鍍機 維修 Sputter維修 基本規格 ˙ 規格：請洽詢本公司..... ..... 桃園縣桃園市大業路一段18號6樓之1 TEL: 03-331-2677 FAX: 03-335-7412 E-mail ...
濺鍍機 (Sputter) 濺鍍機 (Sputter) 廠牌, 型號： 主要規格 l RF power supply ： 400 W l DC power supply ： 400 W l Base vacuum ( 5 × 10-6 Torr ) l Heater ：室溫 性能說明： 成長 Ag, Al, Cr 材料為主 服務項目 成長 Ag, Al, Cr 之材料薄膜。 收費辦法： 收費項目 / ...
Sputter 真空濺鍍系統 簡易操作規範 交大奈米中心真空濺鍍系統B操作規範 1 Sputter 真空濺鍍系統 簡易操作規範 製表日期:2009/06/01 準備事項 先檢查水、氣、電供應是否正常,機台指示牌是否為運轉正常。 工作紀錄單上填寫使用者欄。
(Sputter) 濺鍍機 (Sputter) 廠牌, 型號： 性能說明： 服務項目 收費辦法： 主要規格 RF power supply：400 W DC power supply：400 W Base vacuum ( 5×10-6 Torr ) Heater：室溫 成長Ag, Al, Cr 材料為主 成長Ag, Al, Cr 之材料薄膜。
1 RF射頻濺鍍機介紹 射頻濺鍍機(RF sputter)是一種薄膜製程儀器，適用於電機、機械、電子、光學、材料等研究領域。射頻濺鍍機基本原理乃根據離子濺射原理，當高能粒子(通常是由電場加速的正離子)衝擊到固體表面，固體表面的原子和分子在與這些高能 ...
