Hakuto 伯東 真空產品事業部 真空產品與設備的專家 Expert in Vacuum Pumps & Vacuum technology pfeiffer vacuum,德國普發,inTEST Thermal Solutions,shinko seiki,KRI,氦質譜檢漏儀,分子泵,4Wave ... 最新消息 伯東Pfeiffer vacuum 德國普發線上氣體質譜儀... 2014-01-26 伯東國際通商 inTEST Thermal Solutio... 2014-01-02
濺鍍原理 - 創新技術 使用脈衝直流電漿濺鍍。其主要原理是在真空環境，將陰極加至數百伏特電壓，讓通 入的氣體因高電壓而起輝光放電作用形成電漿，並利用電漿的正離子轟擊金屬靶材 ...
第二章 電鍍基本原理與概念 2 - CADCAM技術交流 第二章 電鍍基本原理與概念 2.1 電鍍之定義 2.2 電鍍之目的 2.3 各種鍍金的方法 2.4 電鍍的基本知識 2.5 電鍍基礎 2.6 鍍有關之計算 2.1 電鍍之定義 電鍍(electroplating)被定義為一種電沈積過程(electrodepos- ition process)， 是利用
反應性射頻磁控濺鍍原理 反應性射頻磁控濺鍍原理. 濺鍍（sputtering）製程是使用電漿（plasma）對靶材進行 離子轟擊（ion bombardment），將靶材表面的原子撞擊出來。這些原子以氣體分子 ...
創新技術 - Catcher 濺鍍原理 陽極處理染色發色技術 化學原理 金屬保護皮膜技術研發 電化學原理 真空濺鍍技術研發 ... 化學原理 金屬保護皮膜原理：金屬材料表面存在微觀的異質性hetrogeneity，例如晶界grain boundary活性較基地matrix為大，故發生氧化反應（電化學反..... / ...
創新技術 - Catcher 濺鍍原理 陽極處理染色發色技術 化學原理 金屬保護皮膜技術研發 電化學原理 真空濺鍍技術研發 刀具鍍膜/模具鍍膜研發 特殊真空濺鍍色彩研發 表面清潔/表面改質技術研發 新型表面處理技術研發 ...
臺灣鍍膜科技股份有限公司 PVD是什麼? 2009/6/18 物理氣相沉積法（Physical Vapor Deposition)，簡稱PVD。 PVD一般區分為三種，分別是真空蒸著(Vacuum Evaporation)、濺鍍(Sputtering)、離子鍍著(Ion Plating)。 ①真空蒸著(Vacuum Evaporation) 金屬在真空中加熱時會變成氣體而蒸發 ...
電鍍原理圖解 / 電鍍原理圖 / 鋰電池原理圖解 - 資料及網站整理 電流的化學效應... 電鍍 電鍍︰利用電解反應,將一種金屬鍍於另一種金屬的表面,形成一層金屬外殼 原理︰利用電解反應,溶液中的金屬離子會在負極接受電子而析出 反應︰ 正極:欲鍍金屬M M++e- 負極︰被鍍物表面做M++e- M 故用含M+之溶液作電鍍液 電鍍的 ...
真空PVD濺鍍原理- 厚昌真空科技有限公司濺鍍PVD離子鍍膜,真空電鍍 PVD鍍膜（離子鍍膜）技術，其具體原理是在真空條件下，採用低氣壓、大電流的電弧 放電技術，利用氣體放電使靶材蒸鍍並使被蒸物與氣體都產生電離，利用電子的 ...
物理氣相沈積 - 俊尚科技股份有限公司 什麼是E-beam Deposition？ 早期製備薄膜多半是利用真空熱阻式蒸鍍法，但由於待 鍍材料與作為承載器的加熱源直接接觸，因此可用的蒸鍍材料種類與所得到的薄膜 ...
