材料世界網:高溫快速熱退火技術於AM-OLED TFT-Array 之應用 在目前製作低溫多晶矽薄膜電晶體(LTPS-TFT)元件當中,多晶矽薄膜的製作技術以準分子雷射退火最為廣泛的使用。準分子雷射退火所形成多晶矽薄膜,應用在薄膜電晶體液晶顯示器上具有非常優越之性能;但是應用在主動式
準分子雷射名稱中的準分子”eximer”為excited的前半部與dimer的後半 ... 準分子雷射和N2分子雷射相似,亦為電子態之間躍遷發射雷射,雷射波長多在 ..... Si 0.9Ge0.1轉換為多晶(poly-crystalline) 的薄膜。 ... 因此,即使被清洗的物體對所施加 的雷射吸收良好,只要它的臨界值遠高於污染物,依樣可依循同樣的原理達成清洗 ...
KrF 準分子雷射退火於氧化銦鎵鋅薄膜電晶體之電性影響分析 2013年10月25日 ... 摘要: 本研究使用波長為248 nm 的KrF準分子雷射退火,針對薄膜電晶體之主動層 氧化銦鎵鋅的氧空缺 ...
FPD雷射退火技術應用與分析 在玻璃基板上製作高品質的低溫複晶矽薄膜,由於受到玻璃基板之融點限制,通常均 使用低溫製程之準分子雷射退火技術來 ...
[技術專文] LTPS TFT-LCD技術綜述- 《化合物半導體·光電技術》雜誌 其中最有效的方法有兩個,一是對電漿增強化學氣相沉積(PECVD)方法製作的a-Si 材料進行準分子雷射退火形成p-Si材料, ...
p.094 準分子雷射退火矽膜之再結晶機制研究/ 郭啟全 - 機械工業雜誌 recrystallization mechanism. ‧多晶矽膜 polycrystalline silicon thin films. ‧準分子雷 射退火 excimer laser annealing. ‧矽膜.
材料世界網:低溫多晶矽膜之凝固速率研究 2009年2月17日 ... 準分子雷射退火經常被運用於製作低溫多晶矽膜。由於準分子雷射退火期間之相變化 過程(Phase ...
下載 - 國立中央大學 界主要以利用準分子雷射退火(Excimer laser annealing;ELC)為主,. 準分子雷射 退火是利用雷射所產生的局部高溫使非晶 ...
【光電技術】XeF準分子雷射退火之低溫多晶矽膜特性分析 研究顯示厚度90nm之矽膜受到準分子雷射退火,於準分子雷射能量密度190~ 200mJ/cm2可製作出直徑約1μm之晶粒,然而 ...
準分子雷射退火”與”金屬誘發側向非晶矽結晶化”.... - Yahoo!奇摩知識+ 請問一下各位:關於半導體製程中的\"準分子雷射退火(Excimer laser annealing, ELA)\"與\"金屬誘發側向非晶矽結晶化( ...