DRAM廠拼製程微縮 ASML機台交貨不及 隨著全球半導體產業復甦，原本財務結構岌岌可危的DRAM廠營運開始轉佳，因此積極投入技術製程微縮的工作，但面臨最大問題除了募資之外，還有ASML的浸潤式曝光機台(Immersion Scanner)大缺貨，交期甚至長達12個月，目前尚無明顯紓解，使得較晚下 ...
雙重曝光技術護航 ArF浸潤式微影穩居主流 - 懂市場 - 新電子科技雜誌 這套系統是可同時支援單次曝光與雙重曝光的下一代浸潤式設備，將透過晶圓平台 ... 至於在疊對誤差方面，雙重曝光技術對曝光機台最大的挑戰，即在於疊對的精確度；因為在45奈米以下製程，光罩層數大增，不僅每層曝光要精確，當層層疊 ...
