三福化工 - MSDS下載中心 三福 三福化工 SFCHEM SF Chem SANFU chemical SANFU ... MSDS下載中心 Download Center ... 產品名稱 產品名稱 己六醇 Download 硫酸鉀 Download 甘露醇 Download 環己胺
晶圓的處理－ 微影成像與蝕刻 光蝕刻技術 微影成像 （（ph t lith hhotolithography）） 步驟步驟 塗敷光阻劑 溶解度會隨曝光程度改變 曝光 改變光阻劑溶解度 顯影 去除溶解度較高的光阻劑 ...
神奇的氫氟酸（Hydrofluoric Acid） - 高瞻自然科學教學資源平台 2010年9月23日 - 氫氟酸的基本性質氟化氫（Hydrogen fluoride），化學式為HF，實驗室可以由 ... 溶解玻璃氟是人類已知活性最大的元素，它會和Si及SiO2可形成極強 ...
WET BENCH C10 SOP(961227) 3 National Nano Device Laboratories Create for the future 濕式清潔法概要 最常使用之晶圓表面清潔步驟為濕式化學法(wet chemistry)，在1980 年代亦曾有以乾式清潔法取代濕式清潔法之論點，同時亦有一些相關的 嘗試性研究，然而時至今日仍未有完整之乾式清潔法 ...
台灣積體電路製造股份有限公司 製程化學品替代：利用不含重金屬之一般稀釋化學品，取代含銅蝕刻液，共減少52%（約5,300噸）的含銅蝕刻廢液產生。 開發化學廢棄物再利用之新技術：與供應商合作，開發顯影液回收再利用，共回收約6,095噸的濃縮顯影液，使其可重複再使用於其他產業 ...
環保簡訊 4.2剩餘廢水當成混凝段用酸鹼劑的成效 1. 研究個案-A公司 A公司的原水pH 約為2.5，於綜合池內已加入氯化亞鐵，所以不用再另外加助凝劑。廢鹼的pH 值約為12，底部有「氧化銅」的沉澱物。 (1)1000ml原水，利用廢鹼調整pH，分別為pH 為5、6、7、8 及9 ...
目前應用於LCD 製程array 段及半導體相關產業的蝕刻技術， 主要可分 ... 蝕刻則與乾式. 蝕刻優缺點互. 補，如何去運. 用需要製程控. 制上極大的智. 慧，以下 是針. 對TFT LCD 溼. 蝕刻製程及設.
Lab2 二氧化矽(SiO 微系統製造與實驗 LAB2二氧化矽遮罩蝕刻 2-4 國立高雄第一科技大學機械系 余志成 © 2007 圖 7 頭套與防強酸鹼手套 （3） 將晶圓放進玻璃皿內進行SiO2 蝕刻()，計時約17 分鐘左右，當時間到達15 分鐘，則每30 秒將晶圓夾出並已去離子水沖洗稀釋後(沖洗時去 ...
無毒玻璃蝕刻液 - 形象圖 - 台灣黃頁 2014年3月31日 - 一、前言：一般單晶或多晶矽、石英或類似特殊玻璃等在進行蝕刻或微蝕加工的時候，大多是使用硝酸與氫氟酸不等比例的混合（矽蝕刻液）；有時候只 ...
BOE ETCHANTS / SBOE ETCHANTS 二氧化矽蝕刻液 Taiwan Maxwave Co., Ltd. 物質安全資料表 BOE ETCHANTS / SBOE ETCHANTS 二氧化矽蝕刻液 上。 3.將受傷處浸於冰的0.2% Hyamine1622 水溶液（1：500）或冰的0.13% Zephiran，若無法直 接浸泡，可使用繃帶，每兩分鐘更換一次。
