化學氣相沉積 - 維基百科，自由的百科全書 化學氣相沉積（英文：Chemical Vapor Deposition，簡稱CVD）是一種用來產生純度高、性能好的固態材料的化學技術。半導體產業使用此技術來成長薄膜。典型的CVD製程是將晶圓（基底）暴露在一種或多種不同的前驅物下，在基底表面發生化學反應或/及化學分解 ...
工業技術研究院- 研發領域- 能源領域-氫能與燃料電池技術 雙極板在燃料電池之作用包括：分配反應氣體至反應區域、分隔兩側之氫氣與氧氣等 反應氣體、電能與熱能之傳導、以及固定薄膜電極組，因此雙極板之基本需求為導電 ...
工業技術研究院 - 研發領域 - 能源領域-氫能與燃料電池技術 Compact微波電漿輔助化學氣相沉積(MPECVD) 設備 產品介紹： 工研院累積多年在微波電漿技術研發經驗，並獲得多項研究專利所開發出之一 套以批次方式生產材料薄膜沉積的真空電漿表面處理製程設備。其原理是利用微波磁控管提供2450 MHZ電磁波將反應腔 ...
Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition 名 稱： 超高頻電漿輔助化學氣相沉積系統 位 置： 太陽光電研究中心無塵室 (寒213) 負責人： 蔡明暐 先生 主要性能 購置日期： 2008 年 4 月 廠 牌： ULVAC 型 號： C200 儀器規格 ： 使用的氣體：B 2 H 6、PH 3 、SiH 4、GeH 4、C 2 H 2、H 2、CF 4、O ...
以新型微波輔助化學氣相沉積法成長不同旋度單壁碳奈米管 此研究目的係利用新型微波電漿輔助化 學氣相沉積法 (MPCVD)分解CoCrPt氧化層以 形成奈米觸媒顆粒，據以成長垂直排列之單壁 ... 此觸媒氧化層隨後於微波輔助化學氣相沉積 系統中以氫電漿進行還原10分鐘 (H2流量100 sccm， 微波功率600 W， 工作壓力30o ...
成功大學電子學位論文服務 系統識別號 U0026-1807201015010900 論文名稱(中文) 微波電漿輔助化學氣相沉積奈米鑽石 及其於機械式共振器之應用 論文名稱(英文) Microwave Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition of Nanodiamond and Its Application for Mechanical Resonators
微波電漿化學氣相沉積系統 - 義守大學 I-Shou University 微波電漿化學氣相沉積系統 Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition System ¾儀器工作原理及服務項目 功能:奈米材料製備 規格如下: 功率: 0~1100 W 壓力: 1x10-3 Torr 溫度: 可達550ºC ¾儀器工作原理及服務項目 利用微波電漿反應系統進
National Tsing Hua University Institutional Repository: 微波電漿化學氣相沉積法之鑽石薄膜的成長與特性研究 微波電漿化學氣相沉積 偏壓輔助 成核 成核動力學 圖紋鑽石薄膜 電子場發射 電子能帶 diamond films microwave plasma-enhanced chemical vapor deposition bias-enhanced nucleation nucleation kinetics patterned diamond films ...
電漿輔助化學氣相沉積 - AST聚昌科技 AST聚昌科技 Cede-200電漿輔助化學氣相沉積系統，是套可升級支援200mm單晶圓、可搭配多反應室的先進電漿介電質薄膜沈積製程設備，此系統可應用在製作高均 勻性(
化學氣相沈積 - 俊尚科技股份有限公司 ... 可以用來獲得基態反應物種所不易達成的反應，而這個優點可應用來進行基材低溫狀態下的電漿化學氣相薄膜沉積 ... 綜觀學術界與產業在製備鑽石薄膜的主要技術，大多是使用微波電漿化學氣相沈積法（MPCVD）。
