Chapter 7 電漿的基礎原理 - 義守大學 I-Shou University 電漿的基礎原理 2 目標 • 列出至少三種用到電漿的半導體製程 • 列出電漿中的主要三種碰撞 • 說明平均自由路徑 • 說明電漿如何增強蝕刻及CVD 製程 • 列出兩 ...
電漿源原理與應用之介紹 - 中華民國物理學會 The Physical Society of Republic of China 物理雙月刊（廿八卷二期）2006 年4 月 440 電漿源原理與應用之介紹 文/張家豪，魏鴻文，翁政輝，柳克強 李安平，寇崇善 吳敏文，曾錦清，蔡文發，鄭國川 摘要 電漿科技已廣泛應用於科學研究及工業製程，成為現代科技的重要指標。
Plasma (physics) - Wikipedia, the free encyclopedia Much of the understanding of plasmas has come from the pursuit of controlled ... A plasma is sometimes referred to as being "hot" if it is nearly fully ionized, ...
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