閎康科技股份有限公司 > 乾式蝕刻及研磨去層次 利用化學溶液/氣體或研磨的方式,將IC本身的層次,包含金屬及氧化層,逐一去除,並可控制欲停留及保留的層次。 ... 在層次去除 ...
國立虎尾科技大學 本中心研究重要設備甚多,僅列舉部份如下: . 穿透式電子顯微鏡(TEM) . 掃描式電子顯微鏡(SEM) . 場發射電子顯微鏡(FEG-SEM) . 表面力分析儀(SFA) . 奈米壓痕測試儀(Nanoindenter) . 表面輪廓儀(SP) . 原子力顯微鏡(AFM )
創新STI蝕刻技術助攻 20奈米製程良率大增 - 學技術 - 新電子科技雜誌 高能量帶電粒子有助提升良率 另一方面,由於帶電蝕刻離子較易受到電漿鞘的電場加速,相較於中性粒子而言,較不受溝槽遮蔽效應影響,也因此更具有方向性移動的效益。倘若深溝槽形成的機制主要是由帶電離子(Cl+或Br+)形成,而非中性自由基 ...
反應式離子蝕刻機RIE 手動操作手冊(軟體部分) NCKU Micro-Nano Technology Center/Southern Region MEMS Center Page1. 反應式離子蝕刻機. RIE.
反應式離子蝕刻機(Reactive Ion Etching, RIE) 冰水機維修保養完成 ... 反應式離子蝕刻機(Reactive Ion Etching, RIE) 冰水機維修保養完成,已正常開放 預約使用! 若有任何問題,請與中心連絡
反應式RIE離子蝕刻機 反應式RIE離子蝕刻機.
反應式離子蝕刻機RIE 參數測定 2003年6月12日 ... Document Type. Title. Document No. Edition Editor. Date. 參數測定. 反應式離子 蝕刻機RIE. 12345-678.
RIE 回上一層. RIE: RF : 13.56MHz 300Watt Reactive gas: O2, H2, Ar, CF4, SF6.
反應式離子蝕刻機;電漿輔助化學沉積系統 PHANTOM II - Rollaway Reactive Ion Etcher (RIE) 反應式離子蝕刻機. The Phantom II RIE system is the most advanced ...
半導體製程設備、反應式離子蝕刻機、電漿輔助化學沉積系統、製程膠帶 力丞儀器提供各式反應式離子蝕刻機/RIE / 電漿輔助化學沉積系統/PECVD 電漿輔助 化學氣相沉積設備(TRION, RIE, ...