Lithography introdution ... 圖案誤差增加，所以負光阻. 較不適合小於3um以下之製程技術。 ... 乎所有光阻塗佈皆以旋轉塗蓋(Spin coating)來進行，如下圖所示。 光阻厚度除與光阻液黏性有關 ...
半導體科技.先進封裝與測試雜誌 - 新穎的光阻凍結製程在雙重成像技術的應用 - Semicondutor Magazine 3>半導體光阻的主要功能是準確地的複製光罩圖像，並透過後續的蝕刻製程達到元件的線寬(CD)需求。隨著光罩線寬的縮小，圖像成像對比的減少，光罩線寬小於曝光機台的光學極限。特徵間距(feature pitch)的解析度對元件密度最為重要，它決定元件如何堆疊。
北美智權報第93期：相位移光罩技術與半導體微影製程 半導體微影製程的原理是在晶片上覆蓋一層感光材料，使來自光源的平行光經過光罩 ，打在感光材料上，光罩 ...
光微影術 - 奈米科學網 2005年3月23日 - 圖一：為標準光微影製程，曝光源通過光罩、透鏡，最後將光罩圖形成像於晶圓上。 .... 根據繞射原理，行經不同相鄰透光區之光線，其影像會因繞射效應而互相干涉，當兩個影像 ...
半導體製程 2013年3月1日 - Confidential. Security C. Outline. ○ 台灣電子業簡介. ○ tsmc Fab14 introduction. ○ 甚麼是半導體業. ○ 製程整合簡介. ○ 結論 ...
半導體製造技術 微機電概論. C-K Liang. 半導體的製程. • 一般半導體的製程可區分為前製程作業、. 晶圓片長成、前段製程及後段製程。 一.
灰階光罩於微型光學元件之應用 掃瞄微影 沒有光罩 聚焦雷射直寫 電子束直寫 薄膜沈積光罩 HEBS 玻璃 特殊光罩 LDW 玻璃 微 影 製 程 光罩微影 (灰階 光罩) 二元光罩 半色調光罩 （1）聚焦雷射與電子束直寫（focused laser beam or electron beam direct
半導體科技.先進封裝與測試雜誌 - 厚層銅柱凸塊製程技術 - Semicondutor Magazine Warren W. Flack, Ha-Ai Nguyen, Ultratech, Inc. Elliott Capsuto, Craig McEwen, Shin-Etsu MicroSi, Inc. 銅柱凸塊的技術最早由Intel於2006年應用在其65奈米製程，代號為「Yonah」的微處理器晶片中。晶圓凸塊代工廠及半導體製造商都積極參與評估這個新技術 ...
== TCE == 在微電子產業的競爭世界中，取得優良的光罩產品及解決方案，是成功的第一步。中華凸版以被公認為亞洲頂尖的merchant光罩供應商而引以為傲。自1997年5月創立以來，中華凸版以創新的研發團隊與顧客一同成長，在先進光罩產品、解決方案的提供、一流 ...
